Способ изготовления амплитудных дифракционных микроструктур и контактных масок

Способ относится к оптическому приборостроению и может быть использован для создания элементов дифракционной оптики, контактных масок и др. Способ включает в себя нанесение светочувствительного слоя на поверхность диэлектрической подложки с показателем преломления n>1, формирование скрытого изображения элемента путем локального воздействия сфокусированного лазерного излучения на светочувствительный слой через толщу диэлектрической подложки с последующим проявлением топологического рисунка селективным травлением. Способ позволяет повысить пространственное разрешение изготавливаемых микроструктур.