Синтез новых неорганических материалов с использованием плазмы

НИР посвящена исследованию плазмы газового разряда, создаваемого СВЧ излучением сантиметрового диапазона длин волн, применяемого для газофазного плазмохимического синтеза (CVD – chemical vapor deposition) углеродных материалов. Задачами работы являются создание плазмы в объемных резонаторах в различных газовых смесях, в том числе содержащих углеводороды и легирующие добавки, исследование параметров плазмы и протекающих плазмохимических процессов, а также непосредственно синтез углеродных материалов (нелегированный и легированный монокристаллический и нанокристаллический алмаз) и исследование их свойств. При выполнении работы будут исследованы технологии получения электропроводящих нанокристаллических алмазных (НКА) пленок и эпитаксиальных монокристаллических алмазных слоев. Проводимые работы предполагают проведение экспериментальных исследований условий синтеза алмазных пленок из газовой фазы в многокомпонентных газовых смесях; диагностику параметров плазмы и химически активных радикалов, выращивание нано- и монокристаллических алмазных пленок, изучение их свойств, разработку технологических приемов получения алмазных пленок, обладающих полупроводниковыми свойствами, теоретический анализ полупроводниковых структур на алмазе. На основе новых данных предполагается получение полупроводникового CVD алмаза p- и n-типа проводимости и комбинаций алмаза с другими полупроводниковыми материалами для создания гетероперехода.