Устройство для атомно-слоевого осаждения

Полезная модель позволяет осуществлять атомно-слоевое осаждение плёнок наноразмерной толщины для приборов твердотельной электроники. Предлагаемое техническое решение позволяет на порядок увеличить производительность процесса осаждения по сравнению с существующими аналогами. Техническое решение, реализованное в полезной модели, предполагает использование внутри реакционной камеры механизмов подъёма, опускания и перемещения поворотных крышек, имеющих уплотнительные элементы и газовую арматуру для подачи реагентов.Предложенное техническое решение обеспечивает возможность реализации классического режима атомно-слоевого осаждения плёнок с высокой производительностью процесса.