НИОКТР
№ 123112800003-1Разработка технологии и комплексного инструмента проектирования широкой номенклатуры СВЧ и силовых компонентов, изготавливаемых на основе гетероэпитаксиальных структур нитрида галлия на подложках кремния с проектными нормами до 0,25 мкм
28.11.2023
Объект разработки: типовой технологический процесс (ТТП) и комплексный инструмент проектирования (КИП) для широкой номенклатуры СВЧ монолитных интегральных схем (СВЧ МИС), работающих в частотном диапазоне до 18 ГГц, на основе нормально открытых полевых транзисторов с высокой подвижностью электронов на гетероэпитаксиальных структурах нитрида галлия на подложках кремния с минимальными проектными нормами до 0,25 мкм.
Целью ОКР является разработка стабильного ТТП и КИП для широкой номенклатуры СВЧ монолитных интегральных схем (далее – СВЧ МИС), работающих в частотном диапазоне до 18 ГГц на основе нормально открытых полевых транзисторов с высокой подвижностью электронов (HEMT) на гетероэпитаксиальных структурах нитрида галлия на подложках кремния (GaN/Si) с минимальными проектными нормами до 0,25 мкм и последующим обеспечением доступа сторонних организаций (далее – Потребителей) к изготовлению своих проектов в режиме контрактного производства.
Ожидаемые результаты:
Будут разработаны типовые технологические проекты, по которым будут изготовлены следующие демонстраторы:
1 Широкополосный усилитель мощности непрерывного режима работы.
2 Предварительный усилитель мощности S-диапазона частот непрерывного режима работы.
3 Предварительный усилитель мощности C-диапазона частот непрерывного режима работы.
4 Нормально-закрытый ключ с максимально допустимым напряжением сток-исток 650 В.
Будет разработан комплексный инструмент проектирования для широкой номенклатуры СВЧ монолитных интегральных схем, работающих в частотном диапазоне до 18 ГГц, на основе нормально открытых полевых транзисторов с высокой подвижностью электронов на гетероэпитаксиальных структурах нитрида галлия на подложках кремния с минимальными проектными нормами до 0,25 мкм.
ГРНТИ
47.14.07 Проектирование и конструирование полупроводниковых приборов и приборов микроэлектроники
47.33.31 Интегральные микросхемы
Ключевые слова
нанонити
силициды
полупроводники
твердый раствор
термоэлектричество
Детали
Начало
03.08.2023
Окончание
30.11.2025
№ контракта
Г/к № 23411.4732190019.11.002/2301/208
Заказчик
МИНИСТЕРСТВО ПРОМЫШЛЕННОСТИ И ТОРГОВЛИ РОССИЙСКОЙ ФЕДЕРАЦИИ
Исполнитель
ФЕДЕРАЛЬНОЕ ГОСУДАРСТВЕННОЕ АВТОНОМНОЕ ОБРАЗОВАТЕЛЬНОЕ УЧРЕЖДЕНИЕ ВЫСШЕГО ОБРАЗОВАНИЯ "НАЦИОНАЛЬНЫЙ ИССЛЕДОВАТЕЛЬСКИЙ УНИВЕРСИТЕТ "МОСКОВСКИЙ ИНСТИТУТ ЭЛЕКТРОННОЙ ТЕХНИКИ"
Бюджет
Средства федерального бюджета: 3 125 000 000 ₽
Похожие документы
Разработка технологии и комплексного инструмента проектирования широкой номенклатуры СВЧ компонентов, изготавливаемых на основе гетероэпитаксиальных структур нитрида галлия на подложках карбида кремния с проектными нормами 0,25 мкм
0.966
НИОКТР
Теоретические исследования поставленных перед НИР задач
0.948
ИКРБС
Исследование конструктивно технологических принципов построения широкополосных усилительных и генераторных компонентов свч-диапазона на основе широкозонных полупроводников
0.944
ИКРБС
Экспериментальные исследования поставленных перед НИР задач
0.944
ИКРБС
Разработка конструкторско-технологических решений создания электронной компонентной базы на широкозонных полупроводниках для современной радиоэлектронной аппаратуры в диапазоне частот 30 - 60 ГГц. Экспериментальные исследования поставленных перед ПНИ задач
0.943
ИКРБС
Разработка и проведение технологических операций изготовления СВЧ- транзисторов на гетероструктурах с двойным электронным ограничением на основе нитрида галлия
0.941
НИОКТР
РАЗРАБОТКА ТЕХНОЛОГИЙ ИЗГОТОВЛЕНИЯ, МЕТОДОВ И СРЕДСТВ ПРОЕКТИРОВАНИЯ СВЧ И ФОТОННЫХ ИНТЕГРАЛЬНЫХ СХЕМ НА БАЗЕ ПОЛУПРОВОДНИКОВЫХ МАТЕРИАЛОВ GAN, GAAS, INP, SI И SIGE, А ТАКЖЕ РАДИОЧАСТОТНЫХ И ОПТОЭЛЕКТРОННЫХ УСТРОЙСТВ И МОДУЛЕЙ НА ЭТОЙ ОСНОВЕ
0.941
ИКРБС
Разработка топологии и технологии изготовления СВЧ транзисторов для создания усилителей мощности
0.941
ИКРБС
Технология изготовления транзисторов для применения в СВЧ усилителях мощности, на основе эпитаксиальных структур GaN выращенных на полуизолирующем карбиде кремния 4Н 4 дюйма
0.939
РИД
Разработка и исследование технологии изготовления мощных СВЧ транзисторов и МИС на основе AlInGaN наногетероструктур на подложках полуизолирующего карбида кремния диаметром до 100 мм
0.938
ИКРБС