Магнетронное распылительное устройство

Изобретение относится к устройствам для осаждения покрытий на изделия в вакуумной камере и предназначено для получения изделий со сверхтвердыми покрытиями с улучшенной адгезией и низким коэффициентом трения за счет добавления к осаждаемым на изделии атомам распыляемой магнетронной мишени атомов легирующего элемента. Технический результат – расширение эксплуатационных возможностей за счет варьирования легирующего элемента мишени и регулирования содержания его атомов в потоке атомов мишени на подложку, а также снижение затрат на изготовление мишеней. Магнетронное распылительное устройство, содержит плоскую круглую мишень, являющуюся катодом тлеющего разряда, магнитную систему, один из полюсов которой прилегает к центру внешней поверхности мишени, а второй ее полюс прилегает к периферии внешней поверхности мишени, вакуумную камеру, являющуюся анодом тлеющего разряда, источник питания тлеющего разряда, соединенный отрицательным полюсом с мишенью, а положительным полюсом – с вакуумной камерой, выполненный из материала легирующего элемента концентричный с мишенью закрепленный на ней диск с диаметром D, превышающий диаметр D1 заданной, не распыляемой ионами центральной зоны мишени и меньший максимального диаметра D2 заданной области распыления. На фиг. 1 показана схема магнетронного распылительного устройства. 1 ил.