РИД
№ 623060700107-6Гибридная модель синтеза упорядоченных наноструктур In/AlGaAs на комплексных поверхностях с различной огранкой
07.06.2023
Программа предназначена для моделирования процессов синтеза наноструктур In методом капельной эпитаксии на комплексных поверхностях AlGaAs с различной огранкой. Алгоритм программы реализуется согласно гибридной модели, основанной на комбинации классической теории нуклеации и метода Монте-Карло. Реализованная в программе модель позволяет учесть процессы зарождения и роста островков на поверхностях AlGaAs, имеющих различную кристаллографическую огранку. Область применения программы: капельная эпитаксия наноструктур InAs/GaAs. Функциональные возможности программы включают реализацию комплексной морфологии поверхности с участками различной огранки, расчет размера, поверхностной плотности и степени упорядоченности формирующихся наноструктур, оценку степени заполнения углублений, учет содержания Al в поверхностном слое. Работа выполнена при финансовой поддержке Министерства науки и высшего образования Российской Федерации, государственное задание в области научной деятельности, проект № FENW-2022-0034 (вн. №ГЗ0110/22-04ЭП*S7).
ГРНТИ
27.35.38 Математические модели физики полупроводников
29.19.03 Теория конденсированного состояния
47.09.48 Наноматериалы для электроники
81.13.30 Нанотехнологии
27.35.49 Математические модели статистической физики и термодинамики
Ключевые слова
метод Монте-Карло
наноструктуры
индий
арсенид галлия
капельная эпитаксия
структурированные поверхности
Детали
НИОКТР
Тип РИД
Программа для ЭВМ
Сферы применения
Программа предназначена для проведения вычислительных экспериментов процессов формирования массивов наноструктур Inметодом капельной эпитаксии на комплексных поверхностях AlGaAs с различной огранкой, с помощью кинетического метода Монте-Карло.
Основная область применения программы: капельная эпитаксия наноструктур In/AlGaAs.
Смежные области: эпитаксия полупроводниковых соединений A3B5, технология изготовления приборов на основе GaAs.
Ожидается
Исполнитель
Исполнители
ФЕДЕРАЛЬНОЕ ГОСУДАРСТВЕННОЕ АВТОНОМНОЕ ОБРАЗОВАТЕЛЬНОЕ УЧРЕЖДЕНИЕ ВЫСШЕГО ОБРАЗОВАНИЯ "ЮЖНЫЙ ФЕДЕРАЛЬНЫЙ УНИВЕРСИТЕТ"
Заказчик
МИНИСТЕРСТВО НАУКИ И ВЫСШЕГО ОБРАЗОВАНИЯ РОССИЙСКОЙ ФЕДЕРАЦИИ
Похожие документы
Моделирование процессов формирования массивов наноструктур In/GaAs с низкой поверхностной плотностью методом капельной эпитаксии на структурированных поверхностных слоях
0.946
РИД
Программа для моделирования процессов формирования нанокапель In на подложках, модифицированных треугольными углублениями, с учетом влияния доли атомов Al в эпитаксиальном слое
0.933
РИД
Программа для моделирования процессов формирования наноструктур In/AlGaAs(001) методом капельной эпитаксии
0.932
РИД
Программа для кинетического моделирования формирования наноструктур In/GaAs(001) методом капельной эпитаксии
0.929
РИД
Кинетическое моделирование физических процессов при росте наноструктур In/AlGaAs методом капельной эпитаксии на подложках, модифицированных участками прямоугольной формы
0.925
РИД
Программа для моделирования роста наноструктур индия методом капельной эпитаксии на подложке GaAs с углублениями полусферической формы
0.923
РИД
Моделирование процессов капельной эпитаксии наноструктур In/GaAs на подложке с модифицированными участками трапециевидной формы
0.919
РИД
Программа для моделирования эпитаксиального роста наноструктур In на подложке GaAs(001) с модифицированными участками треугольной формы
0.907
РИД
Программа для моделирования процессов роста на подложке с прямоугольными углублениями при капельной эпитаксии In/GaAs(001)
0.896
РИД
Программа для моделирования процессов автоэпитаксиального роста GaAs/GaAs(111)A методом Монте-Карло
0.896
РИД