Магнетрон с уменьшенным энергетическим воздействием на подложку

Полезная модель относится к плазменной технике и предназначена для нанесения, посредством магнетронного распыления, металлических покрытий в виде тонких пленок на различные изделия. Полезная модель может быть использована в электронике, наноэлектронике, электротехнике, машиностроении, оптике и других отраслях промышленности. Особенностью магнитной системы разработанного магнетрона является то, что над поверхностью мишени создается арочное магнитное поле, которое «прижимает» плазму к мишени и препятствует дополнительной ионизации распыленных частиц, что позволяет уменьшить энергетическое воздействие на подложку.